集紫外光化学与化学气相干法表面处理的真空设备

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专利(申请)号: CN201210462171.7
专利类型: 发明专利
所属行业: H01:基本电器元件
法律状态: 有效
申请日: 2012-11-15
公开号: CN102969227A
公开日: 2013-03-13
权利人: 上海交通大学
交易方式: 待定 
参考价值: ----
该专利已入库未进入交易状态
发布方资料信息
 
 
本发明公开了一种集紫外光化学与化学气相干法表面处理的真空设备,主要由真空腔室、紫外光源系统、真空泵系统和真空设备控制系统组成,真空腔室由高真空内腔室和低真空外腔室组成:外腔室顶端固定紫外灯光源;内腔室具有高度可调节的样品台,其外置加热和水冷系统。还提供相应的真空设备使用方法。本发明能够准确控制紫外光化学和化学气相干法反应的过程,实现材料、器件等有效清洗和改性,它在材料和纳米光电子器件领域具有重要的应用价值。

 
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